Einkristalline Wafer und Substrate

MgF₂-Einkristallsubstrate

MgF₂-Einkristallsubstrate für VUV-/UV-Optik und polarisationsabhängige Systeme mit definierter Kristallorientierung zur Berücksichtigung der materialbedingten Doppelbrechung.

  • Lieferant und Fertigungspartner mit Sitz in Deutschland
  • Fertigung nach Kundenspezifikationen
  • Optische Prüfung und Messung nach spezifizierten Anforderungen
  • Von Einzelteilen und Prototypen bis zur Wiederholbelieferung
Vier durchscheinende MgF₂-Kristallzylinder unterschiedlicher Größe mit abgerundeten Oberseiten

Produktübersicht

Kundenspezifische MgF₂-Substrate können mit definierten Abmessungen, Kristallorientierungen und Polieranforderungen spezifiziert werden.

Magnesiumfluorid (MgF₂) ist ein optisch positiv einachsiger, doppelbrechender Kristall mit tetragonaler Kristallstruktur und einem breiten Transmissionsbereich vom Vakuumultraviolett (VUV) bis in den Infrarotbereich. Seine hohe VUV-/UV-Transmission, der niedrige Brechungsindex und die von der Kristallorientierung abhängigen optischen Eigenschaften machen MgF₂ für UV-Optiken, Spektroskopie, polarisationsabhängige optische Komponenten und ausgewählte Dünnschichtanwendungen geeignet.

Vorteile auf einen Blick

  • Breiter spektraler Transmissionsbereich vom VUV bis in den IR-Bereich
  • Intrinsische Doppelbrechung mit orientierungsabhängigen optischen Eigenschaften
  • Gute Polierbarkeit für optische Präzisionsoberflächen
  • Gute Beständigkeit gegenüber mechanischen und thermischen Belastungen
  • Niedriger Brechungsindex

Eigenschaften

Chemische Formel
MgF₂
Kristallsystem
Tetragonal (Rutilstruktur)
Punktgruppe
4/mmm
Molare Masse
62,30 g/mol
Mohshärte
6
Gitterparameter
a ≈ 4,62 Å; c ≈ 3,06 Å
Dichte
3,18 g/cm³
Spaltflächen
(100), (110)
Schmelzpunkt
1255 °C
Spezifische Wärmekapazität
1003 J/(kg·K)
Wärmeausdehnungskoeffizient, parallel zur c-Achse
13,7 × 10⁻⁶ K⁻¹
Wärmeausdehnungskoeffizient, senkrecht zur c-Achse
8,9 × 10⁻⁶ K⁻¹
Ordentlicher Brechungsindex (nₒ)
1,384 bei 400 nm
Außerordentlicher Brechungsindex (nₑ)
1,396 bei 400 nm

Typische Anwendungen

  • Optische Systeme im VUV- und UV-Bereich
  • VUV- und UV-Spektroskopie und analytische Instrumentierung
  • Substrate für Excimerlaseroptiken
  • Polarisationsabhängige Optiken und Forschung zur Doppelbrechung
  • Substrate für optische Beschichtungen und Dünnschichtabscheidung
  • Ausgewählte Anwendungen in der Dünnschichtzüchtung und Epitaxieforschung

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